資料詳細
| 項 目 | 内 容 |
|---|---|
| 論文題名(英語) | Selective Germanium Epitaxial Growth on Silicon Using CVD Technology with Ultra-pure Gases |
| 資料名(英語) | Journal of Crystal Growth, Crystal Growth 1989, Part 1, Proceedings of the Ninth International Conference on Crystal Growth |
| 著者(英語) | KOBAYASHI Shin-ichi, CHENG Min-Lin, KOHLHASE Armin, SATO Taketoshi, MUROTA Junichi, MIKOSHIBA Nobuo |
| 巻 | 99 |
| 号 | 1-4 |
| 頁 | 259-262 |
| 発行年 | 1990 |
| 発行者(英語) | North-Holland |
| 論文の言語区分 | 英語 (English) |
| アブストラクトの言語区分 | 英語 (English) |
| ISSN | 00220248 |
| DOI | 10.1016/0022-0248(90)90523-N |
| ID | 199002336 |