資料詳細
| 項 目 | 内 容 |
|---|---|
| 論文題名(英語) | Vapor Growth Mechanism of a Crystal Surface Covered with a Quasi-Liquid Layer - Effect of Self-Diffusion Coefficient of the Quasi-Liquid Layer on the Growth Rate |
| 資料名(英語) | Journal of Crystal Growth, Crystal Growth 1989, Part 1, Proceedings of the Ninth International Conference on Crystal Growth |
| 著者(英語) | KURODA Toshio |
| 巻 | 99 |
| 号 | 1-4 |
| 頁 | 83-87 |
| 発行年 | 1990 |
| 発行者(英語) | North-Holland |
| 論文の言語区分 | 英語 (English) |
| アブストラクトの言語区分 | 英語 (English) |
| ISSN | 00220248 |
| DOI | 10.1016/0022-0248(90)90488-7 |
| ID | 199002641 |