資料詳細

A novel in-situ molecular beam epitaxy monitoring system using low energy ion scallering (KUBO Minoru & NARUSAWA Tadashi, 1991)

項 目 内 容
論文題名(英語) A novel in-situ molecular beam epitaxy monitoring system using low energy ion scallering
資料名(英語) Journal of Crystal Growth, Molecular Beam Epitaxy 1990, Proceedings of the Sixth International Conference on Molecular Beam Epitaxy
著者(英語) KUBO Minoru, NARUSAWA Tadashi
111
1-4
136-140
発行年 1991
発行者(英語) North-Holland
論文の言語区分 英語 (English)
アブストラクトの言語区分 英語 (English)
ISSN 00220248
DOI 10.1016/0022-0248(91)90961-4
ID 199103229