資料詳細

Characterization of lateral correlation length of interface roughness in MBE grown GaAs/AlAs quantum wells by mobility measurement (NODA T. et al., 1991)

項 目 内 容
論文題名(英語) Characterization of lateral correlation length of interface roughness in MBE grown GaAs/AlAs quantum wells by mobility measurement
資料名(英語) Journal of Crystal Growth, Molecular Beam Epitaxy 1990, Proceedings of the Sixth International Conference on Molecular Beam Epitaxy
著者(英語) NODA T., TANAKA M., SAKAKI H.
111
1-4
348-352
発行年 1991
発行者(英語) North-Holland
論文の言語区分 英語 (English)
アブストラクトの言語区分 英語 (English)
ISSN 00220248
DOI 10.1016/0022-0248(91)90999-L
ID 199104922