資料詳細

Annealing behavior of MeV implanted carbon in silicon (ISOMAE Seiichi & ISHIBA Tsutomu, 1993)

項 目 内 容
論文題名(英語) Annealing behavior of MeV implanted carbon in silicon
資料名(英語) Journal of Applied Physics
著者(英語) ISOMAE Seiichi, ISHIBA Tsutomu
74
6
3815-3820
発行年 1993
発行者(英語) American Institute of Physics
論文の言語区分 英語 (English)
アブストラクトの言語区分 英語 (English)
ISSN 218979
ID 199301987