資料詳細
| 項 目 | 内 容 |
|---|---|
| 論文題名 | 340Kまでの低温におけるシリカスケールおよびシリカゲルの溶解速度 |
| 論文題名(英語) | Dissolution Rates of Silica Scale and Silica Gel at the low temperature up to 340K |
| 資料名 | 国際温泉科学会第33回箱根大会 |
| 資料名(英語) | Proceedings of the 33rd Conference of Societe Internationale des Techniques Hydrothermales (SITH) in Hakone, Kanagawa, Japan |
| 著者(英語) | NIIBORI Yuichi, KUNITA Masahisa, TOCHIYAMA Osamu, CHIDA Tadashi |
| 頁 | 122-125 |
| 発行年 | 1997 |
| 発行者 | 国際温泉科学会日本支部 |
| 発行者(英語) | Association Japonaise des Techniques Hydrothermales (SITH Japan) |
| 論文の言語区分 | 英語 (English) |
| アブストラクトの言語区分 | 英語 (English) |
| ID | 199705778 |