資料詳細
項 目 | 内 容 |
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論文題名(英語) | Trace analysis of high-purity copper by total reflection X-ray fluorescence spectrometry |
資料名(英語) | Fresenius' Journal of Analytical Chemistry |
著者(英語) | YAMAGUCHI Hitoshi, ITOH Sinji, IGARASHI Shukuro, NAITOH Kunishige, HASEGAWA Ryosuke |
巻 | 362 |
号 | 4 |
頁 | 395-398 |
発行年 | 1998 |
発行者(英語) | Springer-Verlag |
論文の言語区分 | 英語 (English) |
アブストラクトの言語区分 | 英語 (English) |
ISSN | 09370633 |
ID | 199811061 |