資料詳細
| 項 目 | 内 容 |
|---|---|
| 論文題名(英語) | Scanning tunneling microscopy and spectroscopy characterization of ion-beam-induced dielectric degradation in ultrathin SiO2 films and its thermal recovery process |
| 資料名(英語) | Journal of Applied Physics |
| 著者(英語) | WATANABE Heiji, BABA Toshio, ICHIKAWA Masakazu |
| 巻 | 87 |
| 号 | 1 |
| 頁 | 44-48 |
| 発行年 | 2000 |
| 発行者(英語) | American Institute of Physics |
| 論文の言語区分 | 英語 (English) |
| アブストラクトの言語区分 | 英語 (English) |
| ISSN | 218979 |
| ID | 200004448 |