資料詳細
| 項 目 | 内 容 |
|---|---|
| 論文題名(英語) | Moisture diffusion along the TiN/SiO2 interface and in plasma-enhanced chemical vapor deposited SiO2 |
| 資料名(英語) | Journal of Applied Physics |
| 著者(英語) | XU G., CLARKE D.R., MA Q., FUJIMOTO H. |
| 巻 | 88 |
| 号 | 6 |
| 頁 | 3695-3698 |
| 発行年 | 2000 |
| 発行者(英語) | American Institute of Physics |
| 論文の言語区分 | 英語 (English) |
| アブストラクトの言語区分 | 英語 (English) |
| ISSN | 218979 |
| ID | 200008508 |