資料詳細
| 項 目 | 内 容 |
|---|---|
| 論文題名(英語) | Effect of the dissolved hydrogen on the densification of synthetic silica glass under ArF excimer laser irradiation |
| 資料名(英語) | Journal of Applied Physics |
| 著者(英語) | SHIMBO Masaru, NAKAJIMA Toshio, TSUJI Naoki, ZHONGHA Zhou, YAMAGUCHI Hirosi, KAKUNO Tsutomu, OBARA Takashi |
| 巻 | 88 |
| 号 | 10 |
| 頁 | 6052-6054 |
| 発行年 | 2000 |
| 発行者(英語) | American Institute of Physics |
| 論文の言語区分 | 英語 (English) |
| アブストラクトの言語区分 | 英語 (English) |
| ISSN | 00218979 |
| ID | 200009543 |