資料詳細
項 目 | 内 容 |
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論文題名(英語) | Photoacoustic and photoluminescence studies of porous silicon etched by low-concentration hydrofluoric acid |
資料名(英語) | Journal of Applied Physics |
著者(英語) | TOYODA T., TAKAHASHI T., SHEN Q. |
巻 | 88 |
号 | 11 |
頁 | 6444-6450 |
発行年 | 2000 |
発行者(英語) | American Institute of Physics |
論文の言語区分 | 英語 (English) |
アブストラクトの言語区分 | 英語 (English) |
ISSN | 00218979 |
ID | 200011906 |