資料詳細

Photoacoustic and photoluminescence studies of porous silicon etched by low-concentration hydrofluoric acid (TOYODA T. et al., 2000)

項 目 内 容
論文題名(英語) Photoacoustic and photoluminescence studies of porous silicon etched by low-concentration hydrofluoric acid
資料名(英語) Journal of Applied Physics
著者(英語) TOYODA T., TAKAHASHI T., SHEN Q.
88
11
6444-6450
発行年 2000
発行者(英語) American Institute of Physics
論文の言語区分 英語 (English)
アブストラクトの言語区分 英語 (English)
ISSN 00218979
ID 200011906