資料詳細

希薄酸水溶液によるアロフェンからのAl及びSiの溶出に及ぼす各種陰イオン処理の影響(第2報)(ポスターセッション)(演旨)(逸見ほか, 2000)

項 目 内 容
論文題名 希薄酸水溶液によるアロフェンからのAl及びSiの溶出に及ぼす各種陰イオン処理の影響(第2報)(ポスターセッション)(演旨)
資料名 粘土科学討論会講演要旨集
著者 逸見 幾代, 松枝 直人, 逸見 彰男
44
202-203
発行年 2000
発行者 日本粘土学会
論文の言語区分 日本語 (Japanese)
ID 200015159