資料詳細
| 項 目 | 内 容 |
|---|---|
| 論文題名(英語) | Preparation of HfO2 nano-films by atomic layer deposition using HfCl4 and O2 under atmospheric pressure |
| 資料名(英語) | Solid State Sciences |
| 著者(英語) | NONOBE Shinichi, TAKAHASHI Naoyuki, NAKAMURA Takato |
| 巻 | 6 |
| 号 | 11 |
| 頁 | 1217-1219 |
| 発行年 | 2004 |
| 発行者(英語) | Elsevier SAS |
| 論文の言語区分 | 英語 (English) |
| アブストラクトの言語区分 | 英語 (English) |
| ISSN | 12932558 |
| DOI | 10.1016/j.solidstatesciences.2004.07.030 |
| ID | 200429363 |