資料詳細
| 項 目 | 内 容 |
|---|---|
| 論文題名(英語) | Evaluation of Outermost Surface Temperature of Silicon Substrates during UV-Excited Ozone Oxidation at Low Temperature |
| 資料名(英語) | Analytical Sciences |
| 著者(英語) | KAMEDA Naoto, NISHIGUCHI Tetsuya, MORIKAWA Yoshiki, KEKURA Mitsuru, Nakamura Ken, USHIYAMA Tomoharu, NONAKA Hidehiko, ICHIMURA Shingo |
| 巻 | 26 |
| 号 | 2 |
| 頁 | 273-276 |
| 発行年 | 2010 |
| 発行者(英語) | Japan Society for Analytical Chemistry |
| 論文の言語区分 | 英語 (English) |
| アブストラクトの言語区分 | 英語 (English) |
| ISSN | 09106340 |
| DOI | 10.2116/analsci.26.273 |
| ID | 201020443 |